Інтэграл (кампанія): розьніца паміж вэрсіямі

Змесціва выдалена Змесціва дададзена
д →‎Мінуўшчына: артаграфія
W (гутаркі | унёсак)
д →‎Вытворчасьць: +На запыт у камэнтары
Радок 27:
 
== Вытворчасьць ==
На 2020 год ААТ «Інтэграл» мела {{Артыкул у іншым разьдзеле|Чыстае памяшканьне|чыстыя памяшканьні|en|Cleanroom}} клясы 1 плошчай 195 [[Квадратны мэтар|кв. мэтраў]], клясы 10 — 950 кв.м, клясы 100 — 1338 кв.м, клясы 1000 — 3713 кв.м, клясы 10 000 — 3713 кв.м і клясы 100 000 — 14 742 кв.м. [[Крышталь]]ная вытворчасьць ажыцьцяўлялася ў памяшканьнях клясаў 1, 10, 100 і 1000. Гадавая магутнасьць апрацоўкі пласьцінаў [[прамер]]ам 200 [[Мілімэтар|мілімэтраў]] з праектнымі нормамі 0,35 [[Мікрамэтар|мікрамэтру]] складала 12 000 асобнікаў, прамерам 150 мм з нормамі 0,8 мкм — 120 000, прамерам 100 мм з нормамі 1,5 мкм — 355 000 і прамерам 100 мм з нормамі 2 мкм — 180 000. У крыштальнай вытворчасьці выкарыстоўвалі: 1) [[КМАП|камплемэнтарны мэтал-аксыд-паўправаднік]] (КМАП) 0,35 мкм, 2 [[Полікрышталічны крэмн|полікрышталічныя крэмны]] (ПКК) і 3 Me; 2) 2-КМАП 0,8 мкм, 3 ПКК і 2 Me; 3) высакавольтны КМАП 0,8 мкм, 2 ПКК і 1 Me; 4) 2-палярны спосаб 1,5—5 мкм і 1—2 Me; 5) 2-палярныя звышвысокачастотныя (ЗВЧ) [[транзыстар]]ы; 6) [[дыёд]]ы Шоткі; 7) плянарны выраб [[тырыстар]]аў з разьдзяленьнем сустрэчнай [[дыфузія]]й; 8) эпітаксіяльна-плянарны і дыфузійна-плянарны выраб [[крэмн]]авых паўправадніковых высакавольтных транзыстараў<ref name="а">{{Навіна|аўтар=|загаловак=Магчымасьці|спасылка=https://integral.by/ru/about/facilities|выдавец=ААТ «Інтэграл»|мова=ru|дата публікацыі=2020|дата доступу=29 сьнежня 2020}}</ref>.
 
[[Файл:Integral company Minsk 3.jpg|значак|260пкс|Завод «Электроніка» ААТ «Інтэграл» (2019 год)]]